汞燈作為一種重要的光源，在工業固化、醫療殺菌、光刻曝光等領域有著廣泛應用。但汞燈本質上是典型的點光源，其光線以球面向外輻射，在照射區域形成 “中心亮、邊緣暗" 的不均勻分布，這種特性嚴重制約了其在高精度場景中的應用。因此，通過均光化技術將汞燈從點光源轉化為面光源，成為提升其應用價值的關鍵。

      汞燈的點光源特性帶來的核心問題是光照均勻性差。在紫外固化工藝中，不均勻的光照會導致材料表面固化程度不一，出現局部過固化或欠固化現象，直接影響產品的力學性能和外觀質量；在醫療殺菌領域，光留下衛生隱患。為解決這些問題，均光化技術通過光學調控手段，將點光源的發散光線轉化為均勻的面光源輸出，實現光照強度在目標面上的穩定分布。

       實現汞燈從點光源到面光源的轉變，需從光學元件設計、系統集成優化等多維度展開。在光學元件設計層面，微透鏡陣列是應用廣泛的均光器件之一。由數百個微型透鏡組成的陣列，能將汞燈發出的光束分割為多個子光束，每個子光束經透鏡聚焦后在目標面上形成獨立光斑，通過調整透鏡的曲率、間距和排列方式，可使子光斑相互疊加覆蓋，抵消單點光源的強度差異。例如，在 LCD 曝光設備中，采用矩形微透鏡陣列可使光照均勻性提升至 90% 以上，滿足高精度曝光需求。

      積分棒（又稱光導管）則通過多次反射原理實現均光。汞燈光線進入積分棒后，在棒體內經內壁多次反射，使光線在傳播過程中不斷混合，最終從出口射出時形成均勻的面光源。積分棒的長度、橫截面形狀（如方形、圓形）會影響均光效果，通常長徑比越大，光線混合越充分，均勻性越好。在紫外固化流水線中，搭配積分棒的汞燈系統能使固化區域的光照強度偏差控制在 5% 以內。

     傳統汞燈多采用球面反光罩，雖能匯聚光線，但易在中心區域形成強光點。而拋物面反光罩可將光線平行導出，配合漫反射涂層，能有效削弱光斑中心的峰值強度。例如，在 PCB 板曝光工藝中，采用拋物面反光罩與微透鏡陣列組合的方案，可使曝光面的光照均勻性提升至 95%，顯著減少因光照不均導致的線路缺陷。

      隨著技術的發展，自適應光學系統開始應用于汞燈均光化設計。通過實時監測目標面的光照分布，利用可變形鏡調整光路，能動態補償因汞燈老化、溫度變化等因素引起的均勻性波動。這種智能調控技術尤其適用于精密光刻領域，可將長期使用過程中的光照均勻性穩定在 98% 以上，大幅提升芯片制造的良率。

      此外，多光源協同技術為大尺寸面光源提供了新思路。將多支汞燈按特定陣列排布，通過光學設計使各光源的照射區域相互疊加，結合邊緣光強補償算法，可實現數平方米范圍內的均勻照明。該技術已成功應用于大型液晶面板的固化生產線，光照均勻性達到 92%，滿足了大尺寸工件的加工需求。

      汞燈均光化技術的發展，本質上是對光能量分布的精準調控。從早期的單一光學元件應用，到如今多技術融合的智能系統，每一步突破都推動著汞燈制造領域的應用邊界。未來，隨著新材料（如納米級光學涂層）、新算法（如人工智能光路優化）的引入，汞燈均光化技術將朝著更高均勻性、更廣適應性、更低能耗的方向邁進，為工業生產的精密化、智能化提供更有力的光源支持。

產品展示

      SSC-HM500-M23均光汞燈光源是專門針對紫外區的催化實驗、光刻蝕、光催化、光降解、化學合成的研究級汞燈光源；光源內部安裝500W 高壓短弧球形汞燈，在高頻高壓激發下形成弧光放電，輻射出強而穩定的紫外區強烈光譜，能量密度高，輸出穩定，適用于紫外區的光化學研究和光電的各種實驗，特別適用于強光催化（如光降解及其他光催化研究）。

      光源可兼容多種規格、品牌、進口及國產濾光片及透鏡（25.4mm，50.8mm，,M52，M62等），常用濾光片規格(紫外帶通濾光片）：254nm，313nm，334nm，350nm，365nm，380nm，400nm，405nm。鑫視科可以提供各種規格石英濾光片、反光片、K9光學濾光片等。